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- 在半导体行业内，清洗、去污、光刻、蚀刻等工艺，超纯水系统起着重要的作用。该系统采用多级过滤、RO反渗透、离子交换、电除盐EDI装置、高效抛光床等工艺等工艺相结合的方式，保证水质达到超纯水规范，以适应半导体业对水的特定需求。
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◦产品详情：
多级过滤又称预处理，多级过滤作为第一步，旨在通过过滤、调节pH值等方法去除水中的悬浮物和大部分可溶正离子，为后续工艺奠定基础。
接下来，双级RO反渗透系统进一步将水分子与杂质分离，确保水质达到更高标准，最后电除盐EDI装置结合离子交换树脂去除微量杂质，电阻率达到18兆欧以上，满足超纯水水质需求。
◦常规流程图：
